Igazgató: Prof. BÁRSONY István DSc, H-1525 Budapest, Konkoly-Thege M. út 29-33, Tel.:+361-3922225, Fax:+361-3922226

MFA Nyári Iskola Középiskolásoknak

A jelentkezéssel kapcsolatos információk ITT.

VÁZSONYI Éva #01e - FOTOLUMINESZCENS STRUKTÚRA KIALAKÍTÁSA PÓRUSOS SZILÍCIUMMAL - személyes HONLAP
Témavezető: VÁZSONYI Éva, Tel.:392-2222-2698, Épület:29/B, Szoba:4. és tisztatér, E-mail:vazsonyi@mfa.kfki.hu, GEarth:(KFKI_29B)

FOTOLUMINESZCENS STRUKTÚRA KIALAKÍTÁSA PÓRUSOS SZILÍCIUM RÉTEG SEGÍTSÉGÉVEL
(VÁZSONYI Éva - távollétében: Csikósné dr. PAP Andrea Edit)

A sokat emlegetett MEMS magyarul annyit tesz: mikro-elektronikai és -mechanikai rendszer. A mikrotechnológia területén nagyon sok érdekes műveletet, eljárást alkalmazunk annak érdekében, hogy nagyon kicsi - mikro(nano)méteres - méretben tudjunk előállítani elektronikus, mechanikus eszközöket. Mindezt természetesen szilícium alapon, a jó integrálhatóság érdekében. Ezen eljárások során az első lépés a Si szelet kémiai tisztítása, amit a különböző rétegek kialakítása követ, pl. oxid réteg, fém rétegek kialakítása, gyakran segítségül hívva a fotolitográfiát is, ami lehetővé teszi egy nagy felületen a lokális megmunkálást. Ebben a műveleti csoportban kap fontos szerepet az ún. pórusos szilícium, mint segédréteg a 2- és 3-dimenziós szerkezetek kialakításakor (1. ábra). Így pl. mikroméretű felfüggesztett membránokat, hidakat, csatornákat, vagy optikai szűrőket lehet kialakítani különböző chipeken - a megfelelő helyeken hozzájuk illesztve a "kiolvasó" elektronikát.

1. ábra. Különböző vastagságú, de azonos porozitású pórusos szilícium rétegek Si egykristályon.


Magát a pórusos szilícium réteget elektrokémiai marással állítjuk elő Si egykristály szeleten. Az elektrokémiai maráshoz egy olyan biztonságosan kialakított elektrolizáló cellát használunk (2. ábra), amely ellenáll az alkalmazott kémiai anyagoknak, biztosított benne a homogén elektromos tér, és számítógéppel szabályozható az alkalmazott áramsűrűség, valamint a marási idő is. A pórusos szilícium legfontosabb jellemzői, melyek segítségével tervezhető egy eszköz, a réteg vastagsága és porozitása. Ezek alapvetően meghatározzák a réteg optikai tulajdonságait, stabilitását és más fizikai tulajdonságait is. Például, a pórusos szilícium, ha nagyon finom szerkezetű, akkor a szabad szemmel nem látható ultraibolya fényben vörös színű foto-lumineszcenciát mutat, konkrétan izzó piros fényt bocsát ki. (A látható fényben viszont csak sárgás-barna színű.)
2. ábra. Pórusos szilícium előállítására alkalmas elektrolizáló cella.





PROGRAM:
A tervezett egy hetes munka során a célunk az, hogy intézetünk emblémáját megjelenítsük egy tükörsima szilícium szelet homlok oldalán. Ehhez először az embléma mintázatát egy nagyon vékony (0,2 mikrométer) szilícium-nitrid vékonyrétegből alakítjuk ki. (Ez az anyag nagyon kevéssé oldható a legtöbb ásványi savban, kivéve a forró foszforsavat). A szilícium nitrid mintázattal nem fedett terület legfelső vékony rétegét pórusos szilíciummá alakítjuk át elektrokémiai marással. Az alábbiakban az eljárás egyes lépéseit ismertetjük:
  1. lépés: A szép, tükörfényes szilícium szelet bevonása szilícium nitrid szigetelő, más néven maszkoló réteggel egy speciális berendezésben, az ún. CVD-ben.

  2. lépés: A szilícium-nitrid szigetelő réteggel bevont szilícium szeletre egy szilícium dioxid réteget választunk le egy olyan berendezésben, amely vákuumban működik, és ebbe a térbe eresztünk be olyan gázokat, amelyek reakcióba lépve egymással szilícium-dioxidot eredményeznek. Itt a szilícium-dioxid szemcsék egy vékony bevonatot alkotnak a szilícium nitrid réteg tetején.

  3. lépés: Fotolitográfiai műveletek segítségével egy vékony fényérzékeny lakkrétegben úgy alakítjuk ki az MFA embléma rajzolatát, hogy a lakkréteg csak a mintázatnak megfelelő helyén takarja a szilícium dioxid vékonyréteget

  4. lépés: A szilícium-dioxid vékonyréteget kémiai marással feloldjuk a fotólakkal nem fedett területeken.

  5. lépés: A lakk eltávolítása, feloldása acetonban.

  6. lépés: A szilícium-nitrid réteg kioldása forró foszforsavban a szilícium dioxiddal nem fedett területekről.

  7. lépés: A szilícium-dioxid réteg leoldása.

  8. lépés: A pórusos szilícium előállítása elektrokémiai marással.

  9. lépés: A minta távoli ultraibolya fénnyel való megvilágítása, megfigyelése és lefényképezése. (A lumineszcencia jelenség megfigyelése, vizsgálata.)

  10. lépés: A pórusos szilícium réteg leoldása. A felület megfigyelése és lefényképezése. A műveleteket az MFA nagytisztaságú MEMS laboratóriumában hajtjuk végre közösen - minden lépést megbeszélve és értelmezve a műveletek jelentőségét.




ELÉRHETŐSÉGEK:
Témavezető: VÁZSONYI Éva, Tel.:392-2222-2698, Bp. XII. Konkoly-Thege M. út 29-33, Épület:29/B, Szoba:4 és tisztatér, E-mail:vazsonyi@mfa.kfki.hu, GEarth:(KFKI_29B)

Utolsó frissítés: Wed, 29 Apr 2009 18:00:00 GMT, Számláló: